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[濟(jì)寧真空鍍膜加工]真空電弧離子鍍具有那些優(yōu)點(diǎn)呢?
發(fā)布時(shí)間:2023-06-02 05:00:27 點(diǎn)擊次數(shù):591
真空電弧離子鍍是將鍍膜原材料做為靶極,依靠開啟設(shè)備使靶表層造成濟(jì)寧真空鍍膜加工電弧充放電,膜原材濟(jì)濟(jì)寧真空鍍膜加工寧真空鍍膜加工料在電弧功效下,造成無熔合蒸發(fā)并沉積在硅片上。機(jī)器設(shè)備可依據(jù)客戶規(guī)定配備好幾個(gè)小叫弧源、大濟(jì)寧真空鍍膜加工規(guī)模矩濟(jì)寧真空鍍膜加工形框電弧源或轉(zhuǎn)動柱型磁控電弧源,以完成雙層復(fù)合袋及梯度方向作用膜的制取。
偏壓開關(guān)電源選用新直流電單脈沖累加式電源開關(guān)型偏壓開關(guān)電源,可完成超低溫沉積(~200℃),大大的擴(kuò)張了鍍膜加工工藝的運(yùn)用范疇,而且使膜層品質(zhì)及其膜與基材的融合抗壓強(qiáng)度進(jìn)一步提高。
(1)蒸發(fā)源不造成熔池、繞鍍性好:濟(jì)寧真空鍍膜加工可隨意設(shè)定于鍍膜室適度部位,提升沉積速度使膜層薄厚勻稱,并可簡化硅片旋轉(zhuǎn)組織
(2)出射顆粒濟(jì)寧真空鍍膜加工動能高:膜的致相對密度高,抗壓強(qiáng)度和耐磨性能好。產(chǎn)品工件和膜頁面有分子蔓延,膜的粘合力高.
(濟(jì)寧真空鍍膜加工3)離化率大:可達(dá)80%以上,濟(jì)寧真空鍍膜加工鍍膜速度高,有益于提升膜基粘合力和膜層的特性
(4)一弧常用:電弧既是蒸發(fā)源合離濟(jì)寧真空鍍膜加工化源,也是加溫源和正離子濺射清理的離子源
標(biāo)識:耐磨涂層鍍膜
偏壓開關(guān)電源選用新直流電單脈沖累加式電源開關(guān)型偏壓開關(guān)電源,可完成超低溫沉積(~200℃),大大的擴(kuò)張了鍍膜加工工藝的運(yùn)用范疇,而且使膜層品質(zhì)及其膜與基材的融合抗壓強(qiáng)度進(jìn)一步提高。
(1)蒸發(fā)源不造成熔池、繞鍍性好:濟(jì)寧真空鍍膜加工可隨意設(shè)定于鍍膜室適度部位,提升沉積速度使膜層薄厚勻稱,并可簡化硅片旋轉(zhuǎn)組織
(2)出射顆粒濟(jì)寧真空鍍膜加工動能高:膜的致相對密度高,抗壓強(qiáng)度和耐磨性能好。產(chǎn)品工件和膜頁面有分子蔓延,膜的粘合力高.
(濟(jì)寧真空鍍膜加工3)離化率大:可達(dá)80%以上,濟(jì)寧真空鍍膜加工鍍膜速度高,有益于提升膜基粘合力和膜層的特性
(4)一弧常用:電弧既是蒸發(fā)源合離濟(jì)寧真空鍍膜加工化源,也是加溫源和正離子濺射清理的離子源
標(biāo)識:耐磨涂層鍍膜